[其他]反射屏蔽,其制作法及其在隔垫装置中的应用无效
申请号: | 87100659 | 申请日: | 1987-01-10 |
公开(公告)号: | CN87100659A | 公开(公告)日: | 1987-11-04 |
发明(设计)人: | 让·亨利·路易·迪厄尔 | 申请(专利权)人: | 布隆扎维亚航空设备公司 |
主分类号: | F16L59/00 | 分类号: | F16L59/00 |
代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 吴秉芬 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及射线,特别是红外光线的反射屏蔽,它适用于至少等于900℃的特定温度。屏蔽的特征之一是一方面有在上述温度下不变质的、至少能反射部分红外射线的既光又亮的材料的第一层,另一面由构成支撑材料的第二层所组成。其特征之二是它至少包括插入在前两层之间的、用来阻止上一层发出的射线的材料的第二层。其特征之三是插入层与它相邻的两层是密切相联的。本发明也涉及这种屏蔽的制作法及它在隔热装置组成上的应用。 | ||
搜索关键词: | 反射 屏蔽 制作 及其 装置 中的 应用 | ||
【主权项】:
1、在至少是900℃的特定温度下,作用于辐射线,特别是红外射线的反射屏蔽(20),其特征是:一方面它是由既光又亮的、在上述温度时也不损坏的、至少能反射部分红外射线的材料的第一层(24)所组成,另一方面由构成支撑材料的第二层(21)所组成,其特征之二是它至少包括插入在前两层之间的、能阻止上一层(24)发出的射线的材料的第三层(22、23),其特征之三是插入层(22、23)与它相邻的两层是密切相联的。
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