[发明专利]电解用阴极及其制法无效
申请号: | 87102588.4 | 申请日: | 1987-04-03 |
公开(公告)号: | CN1010234B | 公开(公告)日: | 1990-10-31 |
发明(设计)人: | 雅克·克莱一雷诺;弗郎西斯·勒鲁;多朱尼奎·雷维尔 | 申请(专利权)人: | 阿托化学公司 |
主分类号: | C25B11/06 | 分类号: | C25B11/06;C25B1/34 |
代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 齐曾度 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 由带有非均质覆盖层的导电基材所构成的阴极,所述覆盖层包括至少一层贵金属和/或其氧化物,以及至少一层具有高速盖力的金属。所述阴极特别适用于电解水或碱金属卤化物水溶液的电解槽中,以及采用离子交换膜技术的电解槽中。 | ||
搜索关键词: | 电解 阴极 及其 制法 | ||
【主权项】:
1.一种特别适用于电解碱金属卤化物水溶液的阴极,所述阴极是由导电性基材以及含有贵金属和/或贵金属衍生物的覆盖层所构成,其特征在于该导电性基材带有至少由a层及b层所组成的非均质覆盖层,所述a层与基材相接触,并由包括至少一种下列组分的覆盖层所组成:贵金属,贵金属氧化物,贵金属氧化物的混合物,及至少一种选自镍、钴、铁、钛、铪、铌、钽及锆的氧化物。所述b层则与电解质及a层相接触,并且是由一种高遮盖能力的金属所构成,所述高遮盖能力的金属是选自钴、铁、镍和它们的合金,以及所含的磷、硼或硫的原子比率小于15%的上述金属的合金,并且形成该b层的化合物的沉积量为1-15毫克/厘米2。并且b层投影面和基材投影面之间的比率大于95%。
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