[发明专利]多层陶瓷线路板和半导体组件无效

专利信息
申请号: 87104031.X 申请日: 1987-06-05
公开(公告)号: CN1005241B 公开(公告)日: 1989-09-20
发明(设计)人: 牛房信之;篠原浩一;永山更成;荻原觉;曾我太佑男 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46;H05K1/03;C04B35/14;B32B18/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人: 王以平
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种由陶瓷层和布线导体层交替层迭组成的多层陶瓷线路板,陶瓷层有较布线导体层低的热膨胀系数,但不低于导体层热膨胀系数的一半,陶瓷层由软化温度不高于布线导体层熔点的玻璃形成。以及一种半导体组件,该组件的焊料接合部分有高的可靠性,它包括上述装着陶瓷载体基片的多层陶瓷线路板(陶瓷基片上装有半导体器件)和能用具有良好电导率的银或铜导体做的板。
搜索关键词: 多层 陶瓷 线路板 半导体 组件
【主权项】:
1.一种由陶瓷层和布线导体层交替层迭组成的多层陶瓷线路板,其中,布线导体层由低阻导电材料构成,陶瓷层由SiO2和玻璃形成,其特征在于:陶瓷层中SiO2的含量基本为20-85%,玻璃是从下列材料中选出的一种材料构成的:25%或更少的Al2O3、1-25%的MgO、50%或更少的B2O3、15-25%的ZnO、10-25%的CaO、2-20%的Li2O、10%或更少的K2O、50-60%的AlPO4、25-35%的Y2O3、5%或更少的P2O5、5%或更少的ZrO2、5%或更少的CaF2、6%或更少的AlN、5%或更少的CS2O,以及5%或更少的V2O5,其中百分比均为重量比;其软化温度不高于布线导体层的熔点,其热膨胀系数比布线导体层的低,但不低于布线导体层的热膨胀系数的一半,低导电材料为由金、银或铜中选出的一种金属。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所,未经株式会社日立制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/87104031.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top