[发明专利]制版印刷合成彩色立体图象的方法无效
申请号: | 87104464.1 | 申请日: | 1987-06-25 |
公开(公告)号: | CN1007185B | 公开(公告)日: | 1990-03-14 |
发明(设计)人: | 张大争;张志刚;刘平 | 申请(专利权)人: | 河北省测绘局第一航测外业队 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 河北省专利事务所 | 代理人: | 陈建民 |
地址: | 河北省*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明公开了一种制版印刷合成彩色立体图象的方法,它是利用彩色立体(图)象对进行分色制板,再选取左右象为互补色的分色版进行组合,按照视差要求定出印刷规矩线。将选出的分色版套印在同一画面中。用本方法制作的彩色立体图象清晰度大大提高,色彩比例可调制、色彩平衡还原较正确、立体感强。并且工艺方法筒单。本发明可为风光、人象、航空、显微摄影,遥感图象等彩色立体图象的合成处理提供一种新方法。 | ||
搜索关键词: | 制版 印刷 合成 彩色 立体 图象 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制版印刷合成彩色立体图象的方法,其特征在于利用彩色立体(图)象对进行分色制版,选配左右象为互补色的分色版进行组合,印刷在同一画面中。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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