[其他]薄膜形成装置无效
申请号: | 87104933 | 申请日: | 1987-07-14 |
公开(公告)号: | CN87104933A | 公开(公告)日: | 1988-01-27 |
发明(设计)人: | 伊藤弘基;伊奈照夫 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | C23C16/48 | 分类号: | C23C16/48 |
代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 叶凯东,吴秉芬 |
地址: | 日本东京*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的薄膜形成装置具有真空槽和内部槽,在内部槽设有喷射气体的喷嘴,同时,切去相当于从喷嘴喷出的气体的通路部分的内部槽壁,并在反应性气喷出的真空槽内设置印刷电路板,在内部槽内的反应气体通路方向设置电子束引出电极及电子束放出装置,在内部槽的反应气体通路及上述壁面的切去部分之间安装加速电极。本发明的薄膜形成装置具有高速蒸镀,以获得不同膜质的高功能薄膜。并可在较低的温度形成薄膜。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 形成 装置 | ||
【主权项】:
1、一种薄膜形成装置,其特征在于具有真空槽和内部槽,在该内部槽的内侧设有气体喷射用的喷咀,同时切去相当于从这喷咀喷出的反应气体的通路部分的内部槽壁,并且在反应性气体的喷出方向的真空槽内,设置印刷电路板,另一方面,在内部槽的反应气体通路方向设置电子束引出电极及电子束放出装置,并在内部槽的反应气体通路及上述壁面的切去部分安装加速电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱电机株式会社,未经三菱电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/87104933/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:辅助纸幅移送的装置
- 下一篇:密封终端组件销及生产方法和设备
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的