[发明专利]化学汽相淀积装置

摘要

一种改进的用于沉积均匀薄膜的CVD装置。该装置包括一个反应室，一个底物支持器和多个用于光化CVD的光源，或一对用于等离子体CVD的电极。底物支持器是被光源包围的圆筒形底物加热车，并且是由驱动装置带动绕轴自转。利用这种配置，应用光或等离子体可使装在加热车上的底物及其周围，从而使整个待覆涂表面均匀地进行激发。

主权项

1.一种光化增强的CVD(化学汽相淀积)装置，该装置包括：一个可抽真空的反应室；用于向所述反应室中引入反应气体的装置；一个安装在所述反应室中的通常为柱形底物的夹持器，所述底物夹持器的外周表面能够夹持住多件底物；多个长形的光源并且围绕该底物夹持器均匀地排布，使之向底物进行照射，其中每一个所述的光源都是以气密方式封在能透光的套管内，并且置于该反应室之内。