[发明专利]铝合金表面离子沉积(Ti，Al)N硬质膜的方法无效
| 申请号： | 87108177.6 | 申请日： | 1987-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN1015995B | 公开（公告）日： | 1992-03-25 |
| 发明（设计）人： | 顾卓明;蒋成海;杨烈宇 | 申请（专利权）人： | 大连海运学院 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/06;C23C14/54 |
| 代理公司： | 大连海运学院专利事务所 | 代理人： | 焦宪长 |
| 地址： | 辽宁省大*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明是一种在铝合金表面上离子沉积(Ti，Al)N硬质膜的方法。它采用空心阴极离子镀法，将钛、铝料共同蒸发和电离，并通入反应气体N2生成(Ti，Al)N化合物，在200℃左右的低温下沉积于铝合金表面。用该法得到的(Ti，Al)N膜的硬度高，耐磨和耐蚀性好，结构致密，与基体结合牢固。该方法是一种在铝合金表面生成有效硬质保护镀层的好方法。 | ||
| 搜索关键词： | 铝合金 表面 离子 沉积 ti al 质膜 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在铝合金表面离子沉积(Ti、Al)N硬质膜的方法，采用空心阴极离子镀，其特征在于：将重量比为90-95％钛和5-10％铝共同蒸发和电离，先蒸镀3-5分钟在铝合金基体上产生一层Ti-Al合金中间层；接着通入反应气体N2反应生成(Ti，Al)N化合物，在200℃左右的低温下沉积于铝合金表面。
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