[其他]半导体元件制造工艺无效

专利信息
申请号: 88100817 申请日: 1988-02-11
公开(公告)号: CN88100817A 公开(公告)日: 1988-11-30
发明(设计)人: 吉利·德劳希;奥托·库恩 申请(专利权)人: BBC勃朗·勃威力有限公司
主分类号: H01L21/302 分类号: H01L21/302;B24B3/24
代理公司: 中国专利代理有限公司 代理人: 吴秉芬,程天正
地址: 瑞士巴登哈*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 制造半导体元件,尤其是制造大功率半导体元件的方法是使用空心钻(4)从一块晶片(1)上至少切下一块面积较小的圆形元件衬底(2)。按照一种优选的结构,所用空心钻(4)带有合适的钻头内侧(8),这样在切下元件的同时又可切好某些反向电压较高的元件需要具有的边沿斜面。
搜索关键词: 半导体 元件 制造 工艺
【主权项】:
1、制造半导体元件,尤其是制造大功率半导体元件的方法是用机械方式从一块晶片(1)上至少切下一块面积较小的元件衬底(2),这种方法的特点是,元件衬底(2)为圆形,是用空心钻(4)从晶片(1)上切下的。
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