[发明专利]专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源

摘要

一种专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源，其磷场由条状静止的外磁组件和能作往复运动的内磁组件产生，能对静止的大面积工件表面均匀地镀复阳光控制膜、低辐射膜、镜面膜及导电膜。适用于镀复大面积的工件，如大型建筑玻璃、汽车护栅、露天字牌、大型平面镜等。是一种靶树利用率高、耗能小、膜层均匀度高、投资少效益高的新型溅射源。

主权项

1、一种专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源，包括水冷器、磁场源、阴极靶及屏蔽罩，其特征在于：——水冷器由水冷套2及水冷背板构成，水冷器内设置有一个或多个加强筋3；——磁场源包括两个相平行的外磁组件Ia、Ib及两个或多个内磁组件IIa/IIb，其中外磁组件设置于水冷器2的外侧，内磁组件设置于水冷器2的内部并被加强筋3所分隔；——内磁组件呈一字排列，垂直于外磁组件并能沿平行于外磁组件Ia/Ib的方向作往复运动；——阴极靶11设置于水冷背板9上，当内磁组件运动时靶板的各部份依次受到等离子环的扫描刻蚀。