[发明专利]制作射线平版印刷用的掩膜的方法无效
| 申请号： | 88107055.6 | 申请日： | 1988-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN1025379C | 公开（公告）日： | 1994-07-06 |
| 发明（设计）人： | 安吉莉卡·布伦·斯;沃尔德马·戈茨;玛格列特·哈姆斯;雷尔格·路夫耶 | 申请（专利权）人： | 菲利浦光灯制造公司 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;G03F7/16;H01L21/31 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 叶凯东,吴增勇 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种制作射线平版印刷用的掩膜的方法，该掩膜有一个掩膜支持体和一个基底，基底上有一层按所要的掩膜图样而制作的吸收剂层，氧含量在21-29原子百分比之间的部分氧化的钨吸收剂层的最佳厚度在0.2-1.2微米范围内，吸收剂层最好用阴极溅射的方法沉积到基底上。 | ||
| 搜索关键词： | 制作 射线 平版印刷 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制作射线平版印刷用的掩膜的方法，该掩膜有一个掩膜支持体和一个基底，基底上有一层大致上按所要的掩膜图样而制作、对射线透明的吸收剂层，其特征在于，在所说基底上用阴极溅镀法淀积一层钨层的吸收剂层，该钨层须在大约100至400℃的温度、氧化的气氛中持续1至15小时进行热处理，从而使钨层的含氧量为21～29％的原子百分比。
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