[发明专利]一种加氧化剂酸性硅溶胶抛光液的配制方法在审
| 申请号： | 88107422.5 | 申请日： | 1988-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN1032021A | 公开（公告）日： | 1989-03-29 |
| 发明（设计）人： | 施倪承;施为德;汪雪芳;尹子芳 | 申请（专利权）人： | 中国地质大学(北京) |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K13/00 |
| 代理公司： | 地质矿产部专利代理事务所 | 代理人： | 薜居明,赵方 |
| 地址： | 北京市海淀区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明是属于供抛光、主要是供岩石和矿物等地质样品抛光时用的加氧化剂酸性硅溶胶抛光液的配制方法。本发明所制备的硅溶胶抛光液为酸性。pH为2-3；堆积颗粒度为50-70mm；浓度为5％-25％。本发明所配置的抛光液干净清洁，对人体及环境无毒害、无污染；效果比其它抛光液好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氧化剂 酸性 硅溶胶 抛光 配制 方法 | ||
【主权项】：
1、一种硅溶胶抛光液的配制方法，其特征是采用离子交换法把市售硅溶胶抛光液的酸度调整到PH=2-3；用控制投入活性多硅酸颗粒速度和时间的方法，使抛光液的堆积颗粒度在50-70nm之间；抛光液的浓度控制在5%-25%之间。
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