[实用新型]全面流动卧式离心研磨机无效

专利信息
申请号: 88214130.9 申请日: 1988-09-17
公开(公告)号: CN2040424U 公开(公告)日: 1989-07-05
发明(设计)人: 戚彬彬 申请(专利权)人: 戚彬彬
主分类号: B24B37/00 分类号: B24B37/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 浙江省湖州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种全面流动卧式离心研磨机,属磨削或抛光用的机械技术领域。这种以行星流动研磨原理,用于不规则形面零件表面光整加工的卧式行星研磨机,特征在于使随回转盘公转同时又自转的行星滚筒组在两个回转盘之间设计安装呈10°-20°倾斜,这样滚筒组内的滚抛磨具与工件既有原水平型的离心滚动,又有“8”字形流动,即形成全面流动,消除死角,达到短时间高质量的加工效果,是一种广范围多用途的万能型流动研磨机。
搜索关键词: 全面 流动 卧式 离心 研磨机
【主权项】:
1、一种磨削抛光用的全面流动卧式离心研磨机,它由机架(1)、固定在机架(1)上的回转盘轴(2)、固定在回转盘轴(2)上的回转盘(3)、固定在两个回转盘(3)之间的滚筒组(4)和通过皮带轮(5)与(6)、(12)及皮带(7)与(8)驱动回转盘(3)公转、滚筒组(4)自转的电动机(9)构成,本实用新型的特征在于:滚筒组(4)的每个滚筒两端面上固定着带有短轴的法兰(10),法兰(10)的短轴与滚筒中心线呈10-20°倾角,并与两个回转盘(3)上的轴承座(11)动配合联接,滚筒组(4)呈10-20°倾角固定在两个回转盘(3)之间,从而使滚筒组(4)内的滚抛磨具与工件呈多元全面流动进行研磨。
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