[发明专利]大区域微波等离子装置无效
申请号: | 89102699.1 | 申请日: | 1989-03-28 |
公开(公告)号: | CN1031072C | 公开(公告)日: | 1996-02-21 |
发明(设计)人: | 乔奇姆·道利尔;杰弗尔·M·克雷斯克 | 申请(专利权)人: | 能量转换装置公司;佳能株式会社 |
主分类号: | C23C16/48 | 分类号: | C23C16/48;H01J37/32 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王申 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 适宜在较大区域上维持一个基本均匀的等离子区的微波能量装置。本发明最主要的结构是绕微波施加器设置有一隔离窗,所述隔离窗是由一种微波能通过它从施加器发射到等离子反应容器中的材料构成,该隔离窗的形状能最佳地承受压力,这种方式能使隔离窗的厚度最小,以便快速冷却,从而可达到高功率而不破坏隔离窗。 | ||
搜索关键词: | 区域 微波 等离子 装置 | ||
【主权项】:
1.一种微波等离子装置,它包括:一个真空容器(12);将处理气体引入所述容器内的装置(16);将微波从微波源传播到容器内以产生等离子区的微波施加装置(40);在容器(12)内支承基质的装置(26);将施加装置与等离子区域隔离同时又可使微波穿透的装置(60);其特征在于所述的施加装置包括一细长的波导器,该波导器的纵向壁上有一孔口,以及通过调节孔口的大小控制从孔口辐射出的微波能量的装置,从而可控制等离子区的密度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于能量转换装置公司;佳能株式会社,未经能量转换装置公司;佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/89102699.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:锁闭和/或调节机构
- 下一篇:流体混合装置及其工艺过程
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的