[发明专利]利用分别生成的多种活性气体制备大面积沉积膜的装置无效
申请号: | 89104798.0 | 申请日: | 1989-07-14 |
公开(公告)号: | CN1023239C | 公开(公告)日: | 1993-12-22 |
发明(设计)人: | 松山深照 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | C23C16/48 | 分类号: | C23C16/48;C23C16/54 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 刘建国 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 制备多组分大面积沉积膜的装置,在各自的激活塞中分别激活两种或多种膜原料气体,激活气体通过各自的气体引入口分别引入到成膜室混合,在成膜室中的基片表面附近发生反应,从而在基片上形成所述沉积膜,气体引入口是长方形或椭圆形,平行放置,其长轴至少是短轴的两倍,间距小于短轴,激活室中有杆状微波发射天线,或有催化作用的金属材料做成的丝,或产生射频电场的一对板状电极作为产生分解能的装置。 | ||
搜索关键词: | 利用 分别 生成 多种 活性 气体 制备 大面积 沉积 装置 | ||
【主权项】:
1、一种通过离子反应的方法在基片表面上形成功能沉积膜的装置,这种离子反应是在至少两种成膜原料气体中分解形成的激活气体内进行的,其特征在于,所述装置包括:(a)一个具有一基片支持器的成膜室,所述基片支持器上带有加热沉积于其表面上的所述基片的设备;以及(b)至少两个激活室,每一激活室提供有(i)向其内输送成膜原料气体的设备;(ii)分解所述成膜原料气体的设备;(iii)能显示出一种催化效应的金属材料制成的丝,使所述成膜原料气体在施加了电源之后变成离子状态,激活气体材料在垂直于所述丝的较长轴的方向输运;和(iv)一个用来将激活气体材料引入所述成膜室的气体引入口,每一所述气体引入口具有一个靠近基片表面的开口,并且引入口为长方或椭圆形,其较长轴的长度至少是较短轴长度的两倍,所述气体引入口互相平行设置,间距小于较短轴的长度。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
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