[发明专利]制造太阳能电池阵列的方法无效
申请号: | 89108107.0 | 申请日: | 1986-02-15 |
公开(公告)号: | CN1012778B | 公开(公告)日: | 1991-06-05 |
发明(设计)人: | 朱尔斯·D·利维;米勒德·J·詹姆;罗纳德·E·汉尔;戴维·E·瓦特 | 申请(专利权)人: | 得克萨斯仪器股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/308 |
代理公司: | 上海专利事务所 | 代理人: | 周佩中 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种蚀刻硅材料的方法,它包括a)提供所述硅材料;b)用覆盖了自然氧化物的铝掩蔽所述材料的一部分,使其不被蚀刻;c)用对于所述氧化物相对呈惰性的蚀刻剂蚀刻所述材料。所述蚀刻剂由氧化氢、硝酸和冰醋酸组成。 | ||
搜索关键词: | 制造 太阳能电池 阵列 方法 | ||
【主权项】:
1.一种在制作太阳能电池阵列过程中蚀刻硅材料的方法,其特征在于,它包括下列步骤:a)提供待蚀刻的硅材料;b)用覆盖了自然氧化物的铝掩蔽所述材料的一部分,使其不被蚀刻。c)用对于所述氧化物相对呈惰性的蚀刻剂蚀刻所述材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于得克萨斯仪器股份有限公司,未经得克萨斯仪器股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/89108107.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:抗静电地毯砖片及其制造方法
- 下一篇:磁性记录和重放装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的