[发明专利]掺金离子镀氮化钛技术及设备无效
| 申请号： | 90100341.7 | 申请日： | 1990-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN1053645A | 公开（公告）日： | 1991-08-07 |
| 发明（设计）人： | 田大准;周以仁;汪小平;田美风;刘振忠 | 申请（专利权）人： | 机械电子工业部北京机械工业自动化研究所 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C23C14/24 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 10001*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 掺金离子镀氮化钛技术及设备属于真空离子镀技术领域。本发明的目的在于提供一种新的，低成本，高质量的掺金氮化钛镀膜方法。镀黄金制品成本高，不耐磨。一般仿金制品效果差，且不耐磨，氮化钛仿金耐磨但发青色与黄金色有区别。本发明利用离子镀技术实现氮化钛掺金，膜层有黄金一样的光泽，还具有一定耐磨性能。 | ||
| 搜索关键词： | 离子镀 氮化 技术 设备 | ||
【主权项】：
1、一种掺金离子镀氮化钛的方法，包括被镀工件首先严格清洗，放入镀膜室予抽真空达10-3以上，利用磁控电弧法在工件表面镀TiN膜，再使坩埚中的黄金蒸发并参加电离，使TiN膜上镀一层结合牢固的金膜，特征在于：镀膜时采用变真空度的方法和在金膜上镀一层薄TiN膜。
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