[发明专利]加弧辉光离子渗金属技术及设备无效
申请号: | 90103841.5 | 申请日: | 1990-06-01 |
公开(公告)号: | CN1028546C | 公开(公告)日: | 1995-05-24 |
发明(设计)人: | 潘俊德;范本惠;徐重;李成明;韩晋宏;郑维能 | 申请(专利权)人: | 太原工业大学 |
主分类号: | C23C14/38 | 分类号: | C23C14/38 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 030001 *** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | 的辉光放电及溅射现象,在工件周围设置辅助源极,同时利用真空电弧放电现象,在容器壁上设置一个或多个阴极电弧靶,作为主金属源。在对工件施加负偏压作用下,工件升至高温,依靠欲渗金属离子的轰击与扩散,使工件表面获得具有特殊物理、化学、机械性的纯金属层、合金层、合金镀层及化合物渗、镀层。达到提高渗金属速度及质量,优化工件表面性能的目的。 | ||
搜索关键词: | 辉光 离子 金属 技术 设备 | ||
【主权项】:
1.一种加弧辉光离子渗金属的装置,其特征在于该装置由密封容器、阴极、弧靶源、辅助源极、可调直流电源等组成,密封容器可抽真空并能充入气体介质,阴极可放置工件并能转动,在炉罩上不同方位设置一个或多个作为欲渗元素主供给源的弧靶源,同时在工件周围设置作为加热源和欲渗元素辅助源的辅助源极,在作为共用阳极的炉罩和辅助源极之间以及炉罩和阴极间分别连接一个连续可调的直流电源0-2000V,辅助源极和阴极之间,可以是等电位也可不等电位,炉罩和弧靶源间连接直流可调电源0-100V,0-200A。
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