[发明专利]3-取代乙烯基头孢菌素衍生物及其制备方法无效

专利信息
申请号: 90104598.5 申请日: 1990-07-12
公开(公告)号: CN1048706A 公开(公告)日: 1991-01-23
发明(设计)人: 佐生学;山内博;山中基资;中村隆晴;政;杉山功;小松雄毅;根木茂人 申请(专利权)人: 卫材株式会社
主分类号: C07D501/34 分类号: C07D501/34;C07D501/56;A61K31/545
代理公司: 中国专利代理有限公司 代理人: 孟八一,罗宏
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 下式所示的3-取代乙烯基头孢菌素衍生物式中R1代表羟基或低级烷氧基,X代表氮原子或式-CH=基团,R2代表羧基或由保护基保护的羧基,R3的定义如本文所述,及其药物上可以接受的盐是强力抗菌剂。本文还介绍了它们的制备方法,这些方法中的中间体以及含有这些化合物的组合物。
搜索关键词: 取代 乙烯基 头孢菌素 衍生物 及其 制备 方法
【主权项】:
1、用于制备下式所示3-取代乙烯基头孢菌素衍生物或其药物上可接受盐的方法,该衍生物的通式为:式中R1代表羟基或低级烷氧基;X代表氮原子或式-CH=基团;R2代表羧基或由保护基保护的羧基;和R3代表:(1)环烷基,(2)式-CH2OCONHR4代表的基团,式中R4是氢原子,低级烷基,卤代低级烷基或低级链烯基,(3)下式基团(4)下式基团(5)下式基团之一式中R5和R6相同或不同,并分别是氢原子,低级烷基,低级烷氧基,氨基或卤原子,(6)下式基团式中R7和R8相同或不同,并分别是氢原子,低级烷基,卤代低级烷基或低级链烯基,或者R7和R8与和它们相连的氮原子一道形成吗啉环,(7)下式基团:式中Y是式-CH2-或代表的基团,其前提是,当X是氮原子时,R3只代表式(7)基团,式中Y的意义如前,该方法包括[A]用于制备下式(Ⅳ)或其药物上可以接受的盐的方法,式(Ⅳ)为:式中R2代表羧基或由保护基保护的羧基,R31代表式-CH2OCONHR4代表的基团,其中R4是氢原子,低级烷基,卤代低级烷基或低级链烯基,或R10代表羟基,低级烷氧基或由保护基保护的羟基,该方法包括下述式(Ⅱ)化合物或其盐与式[a]所示化合物或其活性衍生物或其盐反应,根据需要除去氨基,羟基或羧基的保护基,式(Ⅱ)为:式中R2帮R31的定义同前,式[a]为:式中R9代表氨基或由保护基保护的氨基,和R10的定义同前;[B]用于制备下式(Ⅵ)化合物或其药物上可以接受的盐的方法,式(Ⅵ)为:式中R2代表羧基或由保护基保护的羧基;R4代表氢原子,低级烷基,卤代低基烷基或低级链烯基;和R10代表羟基,低级烷氧基或由保护基保护的羟基,该方法包括由下列式(Ⅴ)化合物或其盐与R4定义同前的式R4-N=C=0异氰酸烷基酯反应,并根据需要除去氨基,羟基或羧基的保护基,式(Ⅴ)为:式中R2和R10的定义同前,R9代表氨基或由保护基保护的氨基;[C]制备下述式(Ⅵ)化合物或其药物上可以接受的盐的方法,式(Ⅵ)为:式中R2代表羧基或由保护基保护的羧基;和R10代表羟基,低级烷氧基或由保护基保护的羟基,该方法包括由下述式(Ⅴ)化合物或其盐与卤代磺酰基异氰酸酯反应,并根据需要除去氨基,羟基或羧基的保护基,式(Ⅴ)为:式中R2和R10的定义如前,R9代表氨基或由保护基保护的氨基;[D]制备下述式(Ⅺ)化合物或其药物上可以接受的盐的方法,式(Ⅺ)为:式中R2代表羧基或由保护基保护的羧基;R31代表环烷基或由下式之一代表的基团式中R5和R6相同或不同,并分别是氢原子,低级烷氧基,氨基或卤原子,由下式代表的基团式中R7和R8相同或不同,并分别是低级烷基,R7和R8与和它们相连的氮原子一道形成吗啉环,或者是下式基团式中Y是-CH2-或;和R10代表羟基,由保护基保护的羟基或低级烷氧基,该方法包括下述式(Ⅸ)化合物或其盐与下述式(Ⅹ)化合物反应,然后根据需要除去氨基,羟基或羧基的保护基;式(Ⅸ)为:式中R9代表氨基或由保护基保护的氨基,R2和R10的定义同前,ph代表苯基;式(Ⅹ)为:式中R31的定义同前。
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