[发明专利]取代的4-杂环芳酰基吡唑,制备方法及其作为除草剂的用途无效
申请号: | 90104875.5 | 申请日: | 1990-07-25 |
公开(公告)号: | CN1049013A | 公开(公告)日: | 1991-02-06 |
发明(设计)人: | 阿尔佛莱德·安格曼;荷尔格·富兰克;简斯·盖司乐;格哈德·约翰;理查德·利丝 | 申请(专利权)人: | 舍林股份公司 |
主分类号: | C07D403/12 | 分类号: | C07D403/12;C07D417/12;C07D413/12;A01N43/56;A01N43/74;A01N43/82 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 樊卫民 |
地址: | 联邦德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及通式为I的新的取代的4-杂环芳酰基吡唑类化合物,它们的制备方法及其作为除草剂的用途,式中的U、V、W和Z的含义已在说明书中定义。 | ||
搜索关键词: | 取代 杂环芳酰基 吡唑 制备 方法 及其 作为 除草剂 用途 | ||
【主权项】:
1、一种除草组合物,它包含通式I的取代的4-杂环芳酰基吡唑以及农用载体和稀释剂。式中U代表氢原子,C1~C4-烷基或卤素-C1~C4-烷基,V代表氢原子,C1~C4-烷基或卤素-C1~C4-烷基,W代表通式为W-1到W-7的杂环基:X代表氧原子或硫原子;Z代表卤素原子或是-OR1,-O-(CH2)n-CO-R1,-O-SO2-R1,-S(O)n-R1,-OM或-NR2R3;n为0、1或2;M代表下面金属的阳离子:锂、钠和钾,或一当量的下面金属离子:锌、锰、钙、镁和钡,或者为如下通式的铵离子:R1代表氢原子;C1~C18-烷基;由一个或数个、相同或相异的卤素、羟基或氰基取代的、或被氧或硫一次或多次插入的C1~C18-烷基;C2~C12-链烯基;由一个或数个相同或相异的卤素、羟基或氰基取代的、或被氧或硫一次或多次插入的C2~C12-链烯基;C2~C12-炔烃基;由一个或数个、相同或相异的卤素、羟基或氰基取代的、或被氧或硫一次或多次插入的C2~C12-炔烃基;苯基;由一个或数个、相同或相异的卤素、硝基、氰基、C1~C4-烷基、卤素-C1~C4-烷基、C1~C4-烷氧基或卤素-C1~C4-烷氧基取代的苯基;苯基-C1~C3-烷基或由一个或数个、相同或相异的卤素、硝基、氰基、C1~C4-烷基、卤素-C1~C4-烷基、C1~C4-烷氧基或卤素-C1~C4-烷氧基取代的苯基-C1~C3-烷基;R2代表氢原子;C1~C18-烷基;由一个或数个、相同或相异的卤素、羟基、氰基、C1~C4-烷氧羰基,一NR12R13基或-NR12R13R14基取代的、或被氧或硫一次或多次插入的C1~C18-烷基;C2~C12-链烯基;由一个或数个、相同或相异的卤素、羟基、氰基取代的、或被氧或硫一次或多次插入的C2~C12-链烯基;C2~C12-炔烃基;由一个或数个、相同或相异的卤素、羟基或氰基取代的、或被氧或硫一次或多次插入的C2~C12-炔烃基;C1~C6-烷氧基;卤素-C1~C6-烷氧基;苯基;由一个或数个、相同或相异的卤素、硝基、氰基、C1~C4-烷基、卤素-C1~C4-烷基、C1~C3-烷基或幅个或数个、相同或相异的卤素、硝基、氰基、C1~C4-烷基、卤素-C1~C4-烷基、卤素-C1~C4-烷基、C1~C4-烷氧基取代的苯基-C1~C3-烷基;R3代表氢原子;C1~C18-烷基;由一个或数个、相同或相异的卤素、羟基、氰基、C1~C4-烷氧羰基、-NR12R13基或-NR12R13R114基取代的、或被搓呈硫一次或多次插入的C1~C12-链烯基;由一个或数个、相同或相异的卤素、羟基或氰基取代的、或被氧或硫一次或多次插入的C2~C12-链烯基;C2~C12一炔烃基;由一个或数个、相同或相异的卤素、羟基或氰基取代的、或被氧或硫一次或多次插入的C2~C12-炔烃基;苯基;由一个或数个、相同或相异的卤素、硝基、氰基、C1~C4-烷基、卤素-C1~C4-烷基、卤素-C1~C4-烷基、C1~C4-烷氧基或卤素-C1~C4-烷氧基取代的苯基;苯基-C1~C3-烷基或由一个或数个、相同或相异的卤素、硝基、氰基、C1~C4-烷基、卤素-C1~C4-烷基、C1~C4-烷氧基或卤素-C1~C4-烷氧基取代的苯基-C1~C3-烷基;R2和R3共同与相邻的氮原子构成吗啉基、哌啶基或吡咯烷基;R4代表氢原子;卤素原子;C1~C12-烷基;被氧或硫一次或多次插入的C2~C12-烷基;卤素-C1~C4-烷基;C1~C4-烷氧基;卤素-C1~C4-烷氧基;C1~C4-烷氧羰基;苯基;被卤素、硝基、氰基、C1~C4-烷基;卤素-C1~C4-烷基、C1~C4-烷氧基或卤素-C1~C4-烷氧基取代的苯基,氰基或硝基;R5代表氢原子;卤素原子;C1~C12-烷基;被氧或硫一次或多次插入的C2~C12-烷基;卤素-C1~C4-烷基;C1~C4-烷氧基;卤素-C1~C4-烷氧基;C1~C4-烷硫基,C1~C4-烷氧羰基;苯基;由卤素、硝基、氰基、C1~C4-烷基、卤素-C1~C4-烷基、C1~C4-烷氧基或卤素-C1~C4-烷氧基取代的苯基、氰基或硝基;R6代表氢原子、卤素原子、C1~C12-烷基、被氧或硫一次或多次插入的C2~C12-烷基;卤素-C1~C4-烷基;C1~C4-烷氧基;卤素-C1~C4-烷硫基;C1~C4-烷氧羰基;苯基;被卤素、硝基、氰基、C1~C4-烷基、卤素-C1~C4-烷氧基或卤素-C1~C4-烷氧基取代的苯基;氰基或硝基;R7代表氢原子;卤素原子;C1~C12-烷基;被氧或硫一次或多次插入的C2~C12-烷基;卤素-C1~C4-烷基;C1~C4-烷氧基;卤素-C1~C4-烷氧基;C1~C4-烷硫基;C1~C4-烷氧羰基;苯基;由卤素、硝基、氰基、C1~C4-烷基、卤素-C1~C4-烷基;C1~C4-烷氧基或卤素-C1~C4-烷氧基取代的苯基,氰基或硝基;R8代表氢原子;C1~C12-烷基;被氧或硫一次或多次插入的C2~C12-烷基;苯基或苄基;R9代表氢原子;C1~C12-烷基;被氧或硫一次或多次插入的C2~C12-烷基;苯基或苄基;R10代表氢原子;C1~C12-烷基;被氧或硫一次或多次插入的C2~C12-烷基;苯基或苄基;R11代表氢原子;C1~C12-烷基;被氧或硫一次或多次插入的C2~C12-烷基;苯基或苄基;R12代表氢原子或C1~C12-烷基;R13代表氢原子或C1~C12-烷基;R14代表氢原子或C1~C12-烷基。
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