[发明专利]双直流等离子体化学气相沉积装置

摘要

本发明为一种双直流等离子体化学气相沉积装置，在现有直流等离子体化学气相沉积的基础上，增设一套对工件加热的电极，使镀膜时，工件的温度参数摆脱了其它参数的限制，实现了各参数的独立控制，从而使不同形状、不同体积的工件均能得到均匀的加热温度，避免了膜层脱落，污染和出现针孔等现象，使膜层的性能得到改善，同时使工作电压能够始终保持在辉光放电阶段，不会由于产生弧光而使膜层形成熔斑，镀膜参数的调整和确定也得到简化。

主权项

1、一种双直流等离子体化学气相沉积装置，它包括真空室、与真空定相连的真空系统和充气系统，其特征是真空室内安装有两对电极，两对电极由两套直流电源分别供电，其中一对以工件架为负极，以真空室或一独立极板为正极，另一对为辅助电极，辅助电极只设有一个辅助阴极，其正极接地，或者由分别连接辅助电源正、负极的一个阴极和一个阳极组成，阴极位于内侧。