[发明专利]近场反射型显微技术处理方法及显微镜无效
| 申请号： | 90107312.1 | 申请日： | 1990-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN1050266A | 公开（公告）日： | 1991-03-27 |
| 发明（设计）人： | 得·佛奈尔·佛利得利克;高道奈特·让-皮勒;塞勒·奈特哈利 | 申请（专利权）人： | 斯皮拉尔研究发展公司 |
| 主分类号： | G02B21/00 | 分类号： | G02B21/00;G02B26/10;G02B6/10 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 杜日新 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明为光探针的近场扫描反射型显微技术的处理方法，特别是采用注以高相干电磁波如激光的波导，其特征为波导的端头设在离被测表面近处，使得波导的主传播模式和被测表面的反射的并由波导传回的波的电场传播模式之间的耦合系数随端头接近被测表面而呈现一种大致的指数增长。由于其纯光学装置和毫微米分辨率的特点，本发明的应用场合比一般扫描显微技术的更广泛。特别是用于集成电路的微晶测绘的各式仪器中。 | ||
| 搜索关键词： | 近场 反射 显微 技术 处理 方法 显微镜 | ||
【主权项】：
1、一种使用光学探测器，例如特别是波导的近场扫描反射型显微技术的处理方法，波导中注入有相干电磁波，例如由激光器发射的相干电磁波，处理方法的特征在于此波导末端靠近被研究的表面有一距离，从而所说的波导的主传输波型和由所说的表面反射，并用相同波导作回程传导的波的电场传输波型之间的耦合系数随着所说的末端向所说的表面的趋近，呈现指数增加。
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