[发明专利]除稻杂草的方法

摘要

叙述了在水稻种植中除杂草的方法。式（Ⅰ）化合物已知为除草剂。当以传统用量施用式（Ⅰ）化合物时，为有效地除去伴生的杂草，常常导致损害作物。但是根据本发明，在水稻种植中，可减少用量至０．００１—０．５ｋｇ有效组分／公顷，而对重要的杂草种类如莎草，灯心草和荸荠却有显著的效果。式（Ⅰ）中的Ｒ1～R9如权利要求１所述。

主权项

1．在水稻种植中除杂草的方法，其特征在于，以0.001～0.5千克有效组分/公顷的有效物质用量，向含有杂草和水稻或其种子的耕地施用通式(Ⅰ)所示的一种或几种化合物或其盐，其中R1代表卤素，(C1-C4)-烷氧基，(C1-C4)-烷基，(C1-C4)-卤代烷基，-NO2,-CN或S(O)nR10；R2和R3相互独立地代表氢、卤素，(C1-C4)-烷基，(C1-C4)-烷氧基，OCF3,(C1-C4)-卤代烷基，-CN,-NO2,-S(O)mR11,NR12R13,-NR14-CO-R15,-CO-R16；R4,R6,R7,R8和R9相互独立地代表氢或(C1-C4)-烷基；R5代表氢，(C1-C4)-烷基或-CO-O-(C1-C4)-烷基；R10代表(C1-C4)-烷基，(C1-C4)卤代烷基或(C1-C4)-烷氧基；R11代表(C1-C4)-烷基，(C1-C4)卤代烷基，苯基，苄基或-NH17R18；R12和R13相互独立代表氢或(C1-C4)-烷基；R14代表氢或(C1-C4)-烷基；R15代表(C1-C4)-烷基；R16代表氢，(C1-C4)-烷基，(C1-C4)卤代烷基或(C1-C4)-烷氧基，R17和R18相互独立地代表氢或(C1-C4)-烷基，以及n和m相互独立地代表0,1，或2。