[发明专利]干法工艺用的大面积均匀可调永磁磁路结构

摘要

本发明涉及干法工艺用的大面积均匀可调永磁磁路结构。本发明提供一种磁控反应离刻蚀机上施加磁场的永磁磁路结构，该永磁磁路结构设于反应室内直接构成磁场，由一对包括许多永磁磁铁单元的极板，一个软铁回路以及角铁组成。通过调整可使硅片刻蚀区形成均匀的强度可调的磁场。本发明磁路结构简单，可降低设备制造成本，提高精度，提高设备可靠性和易操作性。

主权项

1、大面积均匀可调永磁磁路结构，其特征在于：在反应室1内的阴极2两侧设有多块成排永磁磁铁单元5与在该成排永磁磁铁单元内侧所加软铁板6组成的极板4，在该极板4外侧设有由二个软铁回路纵长部分71、二个软铁回路水平部分72以及四个软铁回路斜角部分73组成非正八角形或上部呈圆弧形的软铁回路7，在两块对立的软铁板6二端内侧分别设有角铁或由软铁棒排成角状结构8，用于直径为280毫米的反应室1时，阴极直径为60～110毫米，极板4长度为140～165毫米，软铁回路水平部分72的长度为60～110毫米，体积为10×10×10毫米的永磁磁铁单元5在每个极板4上为54块。