[实用新型]一种多功能的磁控溅射离子镀膜装置无效
| 申请号： | 90210166.8 | 申请日： | 1990-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN2067281U | 公开（公告）日： | 1990-12-12 |
| 发明（设计）人： | 战余英;宋刚;王德荣 | 申请（专利权）人： | 辽宁省环境保护科学研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 辽宁省沈阳*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种多功能的磁控溅射离子镀膜装置，它由密闭在真空容器内的两个圆柱型磁控溅射阴极；设在两个阴极之间的挡板，可加负偏压电的夹具和电器控制系统组成。这种镀膜装置具有二十来种适合不同镀膜工艺的自动控制功能，可以溅射镀，也可以离子镀，在一个镀膜周期内可以镀单一金属成分的膜，也可以镀多层结构不同金属成分的膜。因此，可用于多变的实际生产，又可用来开发研究多层结构的新型膜，使装置的功能及使用效率都大有提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多功能 磁控溅射 离子 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
1、一种多功能的磁控溅射离子镀膜装置，其特征是由设在密闭的真空容器内的两个圆柱型磁控溅射阴极A和B；设在两个阴极之间的屏蔽挡板；可施加负偏压电的基板夹具和电器控制系统组成。
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