[发明专利]合成多孔结晶材料的合成和用途无效

专利信息
申请号: 91103656.3 申请日: 1991-05-30
公开(公告)号: CN1033445C 公开(公告)日: 1996-12-04
发明(设计)人: J·S·贝克;G·T·褚;I·D·约翰逊;G·T·克雷斯吉;M·E·利奥诺维奇;W·J·罗思;J·C·瓦尔图利 申请(专利权)人: 美孚石油公司
主分类号: C01B39/06 分类号: C01B39/06;C01B39/04
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 林蕴和
地址: 美国弗*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种合成物质的合成方法,这种合成方法是在25至250℃的温度下将成分在下列范围内的反应混合物进行5分钟至14天的结晶(成分用氧化物的摩尔比表示)X2O3/YO20至0.5X2O3/(YO2+Z2O5)0.1至100X2O3/(YO2+WO+Z2O5)0.1至100溶剂/(YO2+WO+Z2O5+X2O3)1至1500OH-/YO20至10(M2/eO+R2/fO/)(YO2+WO+Z2O5+X2O3)0.01至20M2/eO/(YO2+WO+Z2O5+X2O3)0至10M2/fO/(YO2+WO+Z2O5+X2O3)0.01至2.0
搜索关键词: 合成 多孔 结晶 材料 用途
【主权项】:
1.一种合成物质的合成方法,该合成物质包含一种无机的、多孔的、非层叠的结晶相材料,经过煅烧后,它呈现的X射线衍射图谱至少有一个峰在d-间隔大于1.8nm处,并且在6.7KPa(50乇)和25℃的苯吸附能力大于每100g该材料15g苯;或者该合成物质包含一种无机的、多孔的结晶相材料,它具有由直径至少为1.3nm的大小均匀的孔隙构成的六角阵列,而且经过煅烧后,它呈现的六角形电子衍射图可以用一个大于1.8nm的d100值来标志;该方法的特征在于它将成分在下列范围内的反应混合物在25至250℃的温度下进行5分钟至14天的结晶:(成分用氧化物的摩尔比表示):X2O3/YO20至0.5X2O3/(YO2+Z2O5)0.1至100X2O3/(YO2+WO+Z2O5)0.1至100溶剂/(YO2+WO+Z2O5+X2O3)1至1500OH-/YO20至10(M2/eO+R2/fO)/(YO2+WO+Z2O5+X2O3)0.01至20M2/eO/(YO2+WO+Z2O5+X2O3)0至10M2/fO/(YO2+WO+Z2O5+X2O3)0.01至2.0其中e和f分别是M和R的加权平均价;溶剂是水或C1或C6的醇或二醇;而R包括一种通式为R1R2R3R4Q+的有机定向剂,其中Q为氮或磷;R1,R2,R3,R4中至少有一个是具有6至36个碳原子的芳基或烷基,而其余的R1,R2,R3,R4每一个都是选自氢和具有1至5个碳原子的烷基。
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