[发明专利]多元素同位素X射线荧光分析仪无效
申请号: | 91104263.6 | 申请日: | 1991-07-02 |
公开(公告)号: | CN1031768C | 公开(公告)日: | 1996-05-08 |
发明(设计)人: | 白友兆;王亚林;王益民;杨李锋;李桂兰;李江 | 申请(专利权)人: | 中国建筑材料科学研究院水泥科学研究所 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100024 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明是根据新工作原理设计的一种多元素同位素X射线荧光分析仪,它有特殊设计的双探头非真空测量室,其轻元素探测器是铍窗厚度为25μ的高分辨率封闭式正比计数管,重元素探头为双源探头。同时采用了双通路512道脉冲处理器和独特的X荧光能谱数学解析技术,成功地解决了轻元素和相邻元素的定量分析问题,可以测定元素周期表中包括Al、Si等轻元素在内的大多数元素。本发明在冶金、地质、矿业、化工、建材等工业领域具有广泛的用途。 | ||
搜索关键词: | 多元 同位素 射线 荧光 分析 | ||
【主权项】:
1.一种多元素同位素X射线荧光分析仪,可以同时快速分析物质中原子序数在Al以上(包括Al)的多种元素或其化合物的含量,其特征是:(1)由双探头非真空测量室和双通路脉冲处理器构成主机,该主机与装有命名为WL的专用分析软件的分析计算机构成分析仪整机;(2)上述双探头真空测量室,用于测定Al、Si、S等轻元素含量的轻元素探头采用了Φ10~12mm、厚度25~30μ的薄铍窗封闭式高分辨正比计数管作探测器,并采用了强度为10~20mCi的环状Fe-55低能光子源作激发源,激发源——样品间的距离为0.8~1.5mm;用于测定中等原子序数以上的重元素探头中装有1个20~30mCi的Pu-238点状源和20~30mCi的Am-241点状源,通过光闸机构选择其中之一作为激发源,并采用Ф20~23mm厚度0.2mm的厚铍窗高分辨率正比计数管作为重元素探测器,激发源——样品间的距离为6~10mm;(3)来自轻、重元素探头的X射线荧光信号进入双通路脉冲处理器进行信号放大、变换处理后形成X射线荧光能谱,能谱数据通过RS-232通讯口自动送入分析计算机,该计算机中装有命名为WL的专用分析软件,该软件中采用了具有以下特征的X射线荧光能谱数学分析技术;采用纯元素参考谱非线性最小二乘法谱形拟合的数学解析方法,实现重叠谱峰的剥离、被覆盖峰的解析和背景扣除;采用强峰自选最佳参考谱的方法,自动校正计数率变化所引起的强峰谱形变化和背景变化;采用峰位随机定位技术,自动校正计数率——峰位漂移效应和其它因素引起的峰位漂移。
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