[发明专利]新的噻吩衍生物无效
申请号: | 91104746.8 | 申请日: | 1991-06-10 |
公开(公告)号: | CN1059142A | 公开(公告)日: | 1992-03-04 |
发明(设计)人: | 松尾昌昭;辻喜良;小西信请;中村克哉 | 申请(专利权)人: | 藤泽药品工业株式会社 |
主分类号: | C07D333/26 | 分类号: | C07D333/26;C07D409/04 |
代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 汪洋 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了下式新的噻吩衍生物及其药用盐,制备方法,和药物组合物,其中各基团如说明书所示。这类药物可用于治疗和/或预防人或动物的炎症和各种疼痛,胶原疾病,自体免疫疾病及各种免疫疾病。 | ||
搜索关键词: | 噻吩 衍生物 | ||
【主权项】:
1、一种制备下式化合物或其药学上可接受盐的方法,其中R1为氢;卤素;氰基;由一个或多个选自卤素,羟基,氨基,酰氨基,低级烷基氨基,低级烷基(酰基)氨基,酰基,任意被羟基取代的芳基,一个杂环基,肟基和低级烷氧亚氨基取代基取代的低级烷基;任意被一个氰基取代的链烯基;酰基;硝基;由一个或多个选自酰基和低级烷基磺酰基取代基取代的氨基;磺基;任意由一个或多个选自低级烷基,卤代(低级)烷基,芳基,羟基,低级烷基氨基(低级)烷基,一个杂环基和(酯化羧基)低级烷基取代基取代的氨磺酰;含N杂环磺酰基;羟基;或任意由一个或多个选自羟基,氧代,氨基和低级烷氨基取代基取代的一个杂环基;R2是任意由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,低级烷基硫代,低级烷基亚磺酰基,低级烷基磺酰基,硝基,氨基,氨磺酰,和低级烷基磺酰氨基取代基取代的芳基;和R3是任意由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,低级烷基硫代,低级烷基亚磺酰基,低级烷基磺酰基,硝基,氨基,低级烷氨基,酰氨基,低级烷基(酰基)氨基,低级烷基磺酰氨基和氨磺酰取代基取代的芳基;条件是当R1是氢,卤素,或氰基时,R3是由一个或多个选自氨基,单(低级)烷氨基,酰氨基低级烷基(酰基)氨基和氨磺酰取代基取代的芳基,该方法包括1)下式化合物或其盐与式或其盐反应得到下式化合物或其盐,在上述式中,R1a是氰基或酰基,X是卤素,和R2和R3如上述定义,或2)下式化合物或其盐与一种卤代烷基化试剂反应得到下式化合物或其盐,在上述式中,R1b是卤代(低级)烷基,和R2,R3和X均如上述定义,或3)下式化合物或其盐与一种酰化试剂反应得到下式化合物或其盐,在上述式中,R1c是任意被卤素取代的低级链烷酰基;或任意被羟基取代的芳酰基;和R2和R3均如上定义,或4)下式化合物或其盐与式R4-OH[Ⅵ]反应得到下式化合物或其盐,在上述式中,R2和R3分别如上定义,R4是低级烷基,和n是0-6的整数,或5)将下式化合物或其盐经脱酯化反应得到下式化合物或其盐,在上述式中,R1d是被酯化羧基取代的低级烷基;酯化羧基;或任意被低级烷基取代的(酯化羧基)低级烷基氨基甲酰;R1e是被羧基取代的低级烷基;羧基或任意被低级烷基取代的羧基(低级)烷基氨基甲酰;和R2和R3分别如上定义,或6)下式化合物或其羧基或磺基的反应衍生物或其盐与一种胺,或甲酰胺和碱金属醇盐反应得到下式化合物或其盐,在上述式中,A是-(CH2)nCO-或-SO2-;R5是任意由一个或多个选自低级烷基,卤代(低级)烷基,芳基,羟基,低级烷氨基(低级)烷基,一个杂环基和(酯化羧基)低级烷基取代基取代的氨基;或含N杂环基;和R2,R3的n分别如上定义,或7)下式化合物或其盐与下式化合物反应得到下式化合物或其盐,在上述式中,R2,R3,和R4分别如上定义;8)下式化合物或其盐与一种氧化剂反应得到下式化合物或其盐,在上述式中,R1和R3分别如上定义,R2a是任意由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,硝基,氨基,氨磺酰和低级烷基磺酰氨基取代基取代的低级烷基硫代-取代的芳基;R2b是任意由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,硝基,氨基,氨磺酰和低级烷基磺酰氨基取代基取代的低级烷基亚磺酰基-或低级烷基磺酰基-取代的芳基;R3a是任意由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,低级烷基亚磺酰基,低级烷基磺酰基,硝基,氨基,低级烷基氨基,酰氨基,低级烷基(酰基)氨基和氨磺酰取代基取代的芳基;或9)下式化合物或其盐与一种氧化剂反应得到下式化合物或其盐在上述式中,R1如上定义,R2c是由任意一个或多个选自卤素,低级烷氧基,硝基,氨基,氨磺酰和低级烷基磺酰氨基取代基取代的芳基;R3b是任意由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,硝基,氨基,低级烷氨基,酰氨基,低级烷基(酰基)氨基和氨磺酰取代基取代的低级烷基硫代-取代的芳基;和R3c是任意由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,硝基,氨基,低级烷氨基,酰氨基,低级烷基(酰基)氨基和氨磺酰取代基取代的低级亚磺酰基-或低级磺酰基-取代的芳基;或10)下式化合物或其盐与一种氧化剂反应得到下式化合物或其盐,在上述式中,R1c如上定义,R2d是任意由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,低级烷基磺酰基,硝基,氨基,氨磺酰和低级烷基磺酰氨基取代基取代的芳基;和R3d是任意由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,低级烷基磺酰基,硝基,氨基,低级烷氨基,酰氨基,低级烷基(酰基)氨基和氨磺酰取代基取代的芳基;或11)下式化合物或其盐与一种还原剂反应得到下式化合物或其盐,在上述式中,R1f是羧基;酯化羧基;被羧基或酯化羧基取代的低级烷基;或任意被卤素取代的低级链烷酰基;R1g是任意被卤素取代的羟基(低级)烷基;和R2和R3如上定义,或12)下式化合物或其盐与式H2NO-R6[Ⅷ]或其盐反应得到下式化合物或其盐,在上述式中,R1h是任意被卤素取代的低级烷氧基亚氨基[低级]烷基;或被肟基取代的低级烷基和任意被羟基取代的芳基;R5是氢或低级烷基;和R1c,R2和R3分别如上定义,13)下式化合物或其盐与一种硝化试剂或一种磺化试剂反应得到下式化合物或其盐在上述式中,R2和R3分别如上定义;和R1i是硝基或磺基,或14)下式化合物或其盐经还原得到下式化合物或其盐,在上述式中,R2和R3分别如上定义,或15)下式化合物或其盐经还原得到下式化合物或其盐,在上述式中,R2e是任意由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,低级烷基硫代,低级烷基亚磺酰基,低级烷基磺酰基,氨磺酰和低级烷基磺酰氨基取代基取代的硝基取代的芳基;R2f是任意由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,低级烷基硫代,低级烷基亚磺酰基,低级烷基磺酰基,氨磺酰和低级烷基磺酰氨基取代基取代的氨基取代的芳基;和R1和R3分别如上述定义;或16)下式化合物或其盐与一种酰化或磺酰化试剂反应得到下式化合物在上述式中,R2g是任意由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,低级烷基硫代,低级烷基亚磺酰基,低级烷基磺酰基,硝基,氨磺酰和低级烷基磺酰氨基取代基取代的芳基;R1j是由一个或多个选自酰基和低级烷基磺酰基取代基取代的氨基;和R3如上述定义,或17)下式化合物或其盐与一种磺酰化试剂反应得到下式化合物;在上述式中,R1k是氢;卤素;氰基;由一个或多个选自卤素,酰氨基,低级烷基(酰基)氨基,酰基,芳基,一个杂环基和低级烷氧基亚氨基取代基取代的低级烷基;任意被氰基取代的低级链烯基;酰基;硝基;由一个或多个选自酰基和低级烷基磺酰基取代基取代的氨基;磺基;任意由一个或多个选自低级烷基,卤代(低级)烷基,芳基,一个杂环基和(酯化羧基)低级烷基取代基取代的氨磺酰;含N杂环磺酰基;或一个任意被氧取代的杂环基;R2h是任意由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,低级烷基硫代,低级烷基亚磺酰基,低级烷基磺酰基和氨磺酰取代基取代的低级烷基磺酰氨基-取代的芳基;和R2f和R3分别如上述定义;或18)下式化合物或其盐与一种还原剂反应得到下式化合物或其盐,在上述式中,R1l是含N杂环羰基;任意被低级烷基取代的氨基甲酰;任意被氨基甲酰取代的低级烷基,其中氨基甲酰任意被低级烷基取代;R1m是被含N杂环基,氨基或低级烷氨基取代的低级烷基;和R2和R3分别如上述定义;或19)下式化合物或其盐与一种甲酰化试剂反应得到下式化合物或其盐在上述式中,R2和R3分别如上述定义,或20)下式化合物与一种氯磺酰化试剂反应,然后将所得产物再与一种胺反应得到下式化合物:在上述式中,R3e是任意由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,低级烷基硫代,低级烷基亚磺酰基,低级烷基磺酰基,硝基,酰氨基,低级烷基(酰基)氨基,低级烷基磺酰氨基和氨磺酰取代基取代的芳基;R1n是任意由一个或多个选自低级烷基,卤代(低级)烷基,芳基,羟基,低级烷氨基(低级)烷基,一个杂环基和(酯化羧基)低级烷基取代基取代的氨磺酰;或含N杂环磺酰基;和R2g如上述定义;或21)下式化合物或其盐与硫脲或低级(烷基)硫脲反应得到下式化合物或其盐,在上述式中,R1o是被氨基或低级烷氨基取代的噻唑基;和R2,R3和X分别如上述定义,或22)下式化合物或其盐与式B-R7[Ⅸ]化合物反应得到下式化合物或其盐,在上述式中,R1p是低级链烷酰基;R1q是任意被氰基取代的低级链烯基;B是二-酯化的膦酰或取代的鏻盐;R7是任意被氰基取代的低级烷基;和R2和R3分别如上述定义,或23)下式化合物或其盐经还原得到下式化合物或其盐,在上述式中,R1和R2分别如上述定义,R3f是任意由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,低级烷基硫代,低级烷基亚磺酰基,低级烷基磺酰基,低级烷氨基,酰氨基,低级烷基(酰基)氨基和氨磺酰取代基取代的硝基-取代的芳基;和R3g是任意由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,低级烷基硫代,低级烷基亚磺酰基,低级烷基磺酰基,低级烷氨基,酰氨基,低级烷基(酰基)氨基和氨磺酰取代基取代的氨基取代的芳基;或24)下式化合物或其盐与一种酰化试剂反应得到下式化合物:在上述式中,R1k,R2g和R3g分别如上述定义,和R3h是由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,低级烷基硫代,低级烷基亚磺酰基,低级烷基磺酰基,低级烷基(酰基)氨基和氨磺酰取代基取代的酰氨基-取代的芳基;或25)下式化合物与一种烷基化试剂反应得到下式化合物:在上述式中,R1k,R2g和R3h如上述定义,和R3i是任意由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,低级烷基硫代,低级烷基亚磺酰基,低级烷基磺酰基和氨磺酰取代基取代的低级烷基(酰基)氨基-取代的芳基;或26)下式化合物或其盐与一种脱水试剂反应得到下式化合物或其盐,在上述式中,R2和R3分别如上述定义,或27)下式化合物:经脱酰化反应得到下式化合物或其盐,在上述式中,R1k,R2g和R3i分别如上述定义,和R3j是任意由一个或多个选自卤素,低级烷氧基,低级烷基硫代,低级烷基亚磺酰基,低级烷基磺酰基和氨磺酰取代基取代的单(低级)烷氨基-取代的芳基;或28)下式化合物或其盐与一种叠氮化合物反应得到下式化合物或其盐,在上述式中,R2和R3分别如上述定义。
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