[发明专利]硅加热元件无效
申请号: | 91105300.X | 申请日: | 1991-06-27 |
公开(公告)号: | CN1068006A | 公开(公告)日: | 1993-01-13 |
发明(设计)人: | 博日达·佐里奇;佩塔尔·比扬诺维奇;兹德拉夫科·本德科维奇 | 申请(专利权)人: | 比罗工程师企业公司 |
主分类号: | H05B3/26 | 分类号: | H05B3/26;H05B3/12;H05B3/03 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 马崇德 |
地址: | 列支敦*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种硅加热元件,包括一个高导热性的电绝缘基底(A),该基底(A)承载着一硅层(B)和电接点(C),最好用氧化铍或氮化铝来制作基底(A)。硅层(B)由多晶或非晶硅组成,其中掺杂P型或N型半导体掺杂剂,最好掺杂浓度高于1018/cm3。电接点是耐高温的,并熔合到硅层(B)上。另外,电接点由一层与电绝缘基底(A)接触的耐熔金属接点层(C′)和一种熔合到接点层(C′)上的第二耐温材料(C″)组成。通过将多晶或非晶硅层(B)涂敷到高导热性的电绝缘基底(A)上来制作硅加热元件。 | ||
搜索关键词: | 加热 元件 | ||
【主权项】:
1、一种硅加热元件,包括一个高导热性的电绝缘基底(A),该基底(A)上承载着一层硅层(B)和电接点(C),其特征在于,硅层(B)由多晶或非晶硅组成,而接点是耐高温的,并且接点熔合到硅层(B)上。
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