[发明专利]磁约束电弧汽相淀积的方法和设备

摘要

磁约束电弧汽相淀积的方法和设备涉及电弧汽相淀积技术领域。本发明解决了阴极刻蚀均匀；工作室内放电稳定；基片镀膜均匀的技术问题。本发明的主要技术特征是阳极呈筒状或钟罩形，阴极呈柱形，它们之间同轴放置，长度基本一致，基片位于阳极和阴极之间，在阳极和阴极之间的区城内施加一运动的磁场，用来约束和移动阴极表面上的弧斑，为了防止息弧，在阴极两端处施加了一个恒定磁场和阻挡壁。这种方法和设备可用于TiN膜的制备，也可用于制备其它膜。

主权项

1、一种在真空室内利用阴极靶和阳极之间产生的电弧所形成的等离子体在基片表面进行汽相淀积的方法：(1)建立阳极和阴极之间的电位差和电回路，并可维持阳极和阴极之间的电弧放电；(2)阳极呈筒状或钟罩形，阴极呈柱形，阳极以阴极为轴，阳极和阴极按轴对称设置；(3)用触发器激发阳极和阴极之间的电弧；(4)基片置于阳极和阴极之间；(5)基片施加的电位相对于阳极的电位为负值并可调来控制轰击到基片上的离子能量；其特征是：(6)在阳极和阴极之间的空间区域内，施加一个沿阴极柱面上下往复运动的磁场，运动的磁场的主方向与阴极柱轴平行、强度调整到可约束弧斑的运动。(7)在阴极两端柱面的空间区域上施加一个与沿阴极柱面上下往复运动的磁场的主方向相反、强度略强的恒定磁场，并在恒定磁场有效区域内距离柱形阴极终端，以恒定磁场有效区域边境为起点大于二分之一的位置上设置阻挡壁，限制弧斑移到恒定磁场的磁场最强处。