[发明专利]一种电弧汽相淀积的装置无效

专利信息
申请号: 91105730.7 申请日: 1991-08-21
公开(公告)号: CN1069777A 公开(公告)日: 1993-03-10
发明(设计)人: 刘维一 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/35
代理公司: 南开大学专利事务所 代理人: 孙克忱
地址: 30007*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种电弧汽相淀积的装置涉及电弧汽相淀积技术领域。本发明解决了利用有限的工作室内空间放置较多的基片,来提高空间的利用率的技术问题。本发明的主要技术特征是;阳极呈筒状或钟罩形,阴极呈柱形,阳极和阴极的长度基本一致,阳极以阴极为轴并同轴放置,基片位于阳极和阴极之间。在阳极和阴极之间的区域内可以施加磁场,用来约束和移动阴极表面上的弧斑,为了防止息弧,在阴极两端处施加了阻挡壁。这种设备可用于TiN膜的制备,也可用于制备其它膜。
搜索关键词: 一种 电弧 汽相淀积 装置
【主权项】:
1、一种电弧汽相淀积的装置:(1)阳极[1]呈筒状或钟罩形;(2)触发电极[2]可与阴极[7]接触;(3)一个直流电源[3]连接阳极[1]和阴极[7],为电弧供电;(4)一个直流电源[4]连接触发电极[2]和阴极[7],用于启弧;(5)基片[5]施加的电位相对于阳极[1]的电位为负并可调节,来控制轰击到基片[5]上的离子能量;其特征是:(6)阴极[7]为柱形,阳极[1]以阴极[7]为轴并按轴对称设置;(7)基片架[6]位于阳极[1]和阴极[7]之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南开大学,未经南开大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/91105730.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top