[发明专利]一种电弧汽相淀积的装置无效
申请号: | 91105730.7 | 申请日: | 1991-08-21 |
公开(公告)号: | CN1069777A | 公开(公告)日: | 1993-03-10 |
发明(设计)人: | 刘维一 | 申请(专利权)人: | 南开大学 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/35 |
代理公司: | 南开大学专利事务所 | 代理人: | 孙克忱 |
地址: | 30007*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 一种电弧汽相淀积的装置涉及电弧汽相淀积技术领域。本发明解决了利用有限的工作室内空间放置较多的基片,来提高空间的利用率的技术问题。本发明的主要技术特征是;阳极呈筒状或钟罩形,阴极呈柱形,阳极和阴极的长度基本一致,阳极以阴极为轴并同轴放置,基片位于阳极和阴极之间。在阳极和阴极之间的区域内可以施加磁场,用来约束和移动阴极表面上的弧斑,为了防止息弧,在阴极两端处施加了阻挡壁。这种设备可用于TiN膜的制备,也可用于制备其它膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 电弧 汽相淀积 装置 | ||
【主权项】:
1、一种电弧汽相淀积的装置:(1)阳极[1]呈筒状或钟罩形;(2)触发电极[2]可与阴极[7]接触;(3)一个直流电源[3]连接阳极[1]和阴极[7],为电弧供电;(4)一个直流电源[4]连接触发电极[2]和阴极[7],用于启弧;(5)基片[5]施加的电位相对于阳极[1]的电位为负并可调节,来控制轰击到基片[5]上的离子能量;其特征是:(6)阴极[7]为柱形,阳极[1]以阴极[7]为轴并按轴对称设置;(7)基片架[6]位于阳极[1]和阴极[7]之间。
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