[发明专利]一种挤压抛光工作介质及其制造方法无效
| 申请号： | 91106657.8 | 申请日： | 1991-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN1065279A | 公开（公告）日： | 1992-10-14 |
| 发明（设计）人： | 许菊华;张向宇;杨贵铭;许伟红;杨毅 | 申请（专利权）人： | 航空航天工业部南方动力机械公司 |
| 主分类号： | C08J5/14 | 分类号： | C08J5/14 |
| 代理公司： | 航空工业部南方专利事务所 | 代理人： | 张继纲,李翠梅 |
| 地址： | 41200*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 磨粒流挤压抛光工作介质由硅硼树脂、适宜粒度的磨料和少量矿物油及C8～C35的直链径经捏合机揉和而成，其中硅硼树脂由硅油与硼酸经有控制的成环——开环聚合反应制得。该介质置于挤压抛光装置中，可起到去毛刺、领边倒圆和提高工件表面粗糙度级别的作用，特别适宜于形状复杂或深长孔的腔件的精整加工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 挤压 抛光 工作 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种挤压抛光工作介质，由含硅氧链的树脂，分散在树脂中的磨料以及少量润滑剂，表面隔离剂组成，其特征在于：(1)所述含硅氧链的树脂是硅硼树脂，其用量为100重量分；(2)所述磨料为粒度适宜的碳化物、氮化物、氧化物类磨料，其用量与上述树脂相当；(3)所述润滑剂是矿物油，其用量为1～10重量分；(4)所述表面隔离剂是C8～C35的直链径，其用量为0.1～3重量分
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