[发明专利]快速深层氮化处理工艺无效
| 申请号： | 91107261.6 | 申请日： | 1991-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN1031949C | 公开（公告）日： | 1996-06-05 |
| 发明（设计）人： | 周上祺;胡振纪;任勤;严金淮;范秋林;李辉 | 申请（专利权）人： | 重庆大学 |
| 主分类号： | C23C8/26 | 分类号： | C23C8/26 |
| 代理公司： | 重庆大学专利事务所 | 代理人： | 张荣清 |
| 地址： | 63004*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 快速深层氮化处理工艺，由工件在通氨的氮化炉内从室温开始升温，周期性的氮化-时效和随炉冷却至某一温度停止供氨后出炉空冷组成。这种处理工艺能耗低，工件变形小，工艺简单，操作方便，采用本发明进行工件深层氮化处理时，平均氮化速度较现有工艺提高一倍以上，它既节约能源，又节约工时。本发明适用离子氮化，气体氮化，盐浴氮化和软氮化。 | ||
| 搜索关键词： | 快速 深层 氮化 处理 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种快速深层氮化处理工艺，包括把被处理工件放入通氨的氮化炉内从室温开始升温，氮化，停止供氨后随炉冷却至一定温度出炉空冷，其特征在于将工件进行周期性的氮化与时效处理：(1).被处理工件入炉后，在第一周期，以每小时100～650℃的平均升温速度升至480～580℃的氮化温度，氮化2～8小时，又以每小时400～650℃的平均速度随炉冷却至200～450℃，时效0.25～2小时；(2).第2～10周期，每周期是在前一周期时效处理后，均按每小时400～650℃的平均速度升温到第一周期氮化温度，均重复第一周期的氮化时间、随炉降温速度、时效温度和时效时间，最后一周期时效处理后，以每小时100～400℃的速度随炉冷却至100～200℃出炉空冷。
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