[发明专利]耐温度变化的光导模制体及其制法无效
| 申请号： | 91110737.1 | 申请日： | 1991-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN1061419A | 公开（公告）日： | 1992-05-27 |
| 发明（设计）人： | 托马斯·思特林;约根·泰斯;逖劳·瓦斯;马丁·布柳克;安德里思·伯劳克麦尔 | 申请（专利权）人： | 赫彻斯特股份公司 |
| 主分类号： | C08J5/00 | 分类号： | C08J5/00;C08L83/00;B29D11/00;G02B1/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 黄泽雄 |
| 地址： | 联邦德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 由聚硅氮烷或聚氢氯硅氮烷制造光导模制体的方法。在此方法中将聚硅氮烷或聚氢氯硅氮烷挤压成模制体，或者将其溶于一种溶剂中并挤压成模制体，接着暴露在温度为10至200℃，相对湿度为20至100％的气体环境中0.1至24小时。此模制体具有皮层/芯结构，其中皮层由1至3重量％氧，20至25重量％氮和30至40重量％硅组成，芯100重量％由聚硅氮烷或聚氢氯硅氮烷组成。 | ||
| 搜索关键词： | 耐温 变化 光导模制体 及其 制法 | ||
【主权项】：
1、由聚硅氮烷或聚氢氯硅氮烷制造光导模制体的方法，其特征在于：将聚硅氮烷或聚氢氯硅氮烷挤压成模制体，或者将其溶于一种溶剂中并挤压成模制体，接着暴露在温度为10至200℃和相对湿度为20至100%的气体环境中0.1到24小时。
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