[发明专利]测量涂层状态的方法和设备无效
| 申请号： | 92102565.3 | 申请日： | 1992-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN1031959C | 公开（公告）日： | 1996-06-05 |
| 发明（设计）人： | 井上享;小林勇仁;筱木秀次 | 申请（专利权）人： | 住友电气工业株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 范本国 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明以平行光照射涂层光纤的侧面，用带有聚光透镜和针孔的图象传感器检测被树脂部分的外表面反射到一个特定方向的光束及被树脂部分和玻璃部分之间界面而反射到与该特定方向平行的方向上的光束。测量出表面反射光束和界面反射光束的间距d2及对应这些反射光束的入射光束间距d1。根据这样测定的d1和d2来估计涂层状态。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 涂层 状态 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种涂层状态测量方法，包括下列步骤：以入射光照射一个圆柱形线状物体的侧面，该线状体具有一个主体及在主体形成的至少一层的涂层；检测被涂层外表面的反射到至少一个特定方向上的反射光束以及被涂层和主体界面反射或被涂层的相邻两层间界面反射到与该特定方向平行的方向上的反射光束；根据表面反射光束和界面反射光束之间的反射光距确定主体的中心；以及根据上述主体的中心与上述的圆柱形线状物体的中心的偏心度确定涂层厚度和厚度变化。
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