[发明专利]一种照相砂雕硬质材料表面的方法及设备无效
申请号: | 92104846.7 | 申请日: | 1992-06-25 |
公开(公告)号: | CN1024078C | 公开(公告)日: | 1994-03-23 |
发明(设计)人: | 袁树森 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所职工技术协会 |
主分类号: | B24C1/04 | 分类号: | B24C1/04;B28D1/00;G03D3/00 |
代理公司: | 三友专利事务所 | 代理人: | 周樱 |
地址: | 1000*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种照相砂雕硬质材料表面的方法及设备。在塑性保护层对不须雕刻部位的掩蔽下,用高压空气加金刚砂的混合射流,对待雕刻表面的待雕刻部位进行喷射雕刻。硬质材料指大理石、玻璃、陶瓷、金属。在硬质材料表面照相砂雕图案的设备具有一个高压空气加金刚砂高速旋转射流的形成系统,包括砂雕图案砂雕箱、砂雕废气抽出、净化装置、空气压缩机、喷射枪,该喷射枪至少设有进气口、进砂口和喷嘴。产品逼真,提高工效数十倍。 | ||
搜索关键词: | 一种 照相 硬质 材料 表面 方法 设备 | ||
【主权项】:
1、一种照相砂雕硬质材料表面的方法,其特征在于:在塑性保护层对不须雕刻部位的掩蔽下,用高压空气加金刚砂的混合射流,对待雕刻表面的待雕刻部位进行喷射雕刻,该法包括:1)用公知方法清洗所说的硬质材料平整的待雕刻图案的表面的清洗工艺;2)由在硬质材料待雕刻图案的表面上设置至少一层不干胶膜,然后在不干胶膜上涂敷塑性光敏胶层,将一块其图案与欲雕刻的原著图案相反的掩模底板接触覆盖在塑性光敏胶层上,用紫外光或可见光在掩模底板的掩蔽下,对塑性光敏胶层进行曝光,使已曝光后的塑性光敏胶层显影、清洗、从待雕刻表面去掉未曝光部位即待雕刻部位的塑性光敏胶层,露出覆以不干胶模的待雕刻部位,留下已曝光部位即不须雕刻部位的塑性光敏胶层,形成其图案与原著一致的塑性光敏胶保护层组成的图案转移工艺;3)在砂雕箱中用高压空气加金刚砂的旋转混合射流,对不干胶及其下面的硬质材料的待雕刻表面待雕刻部位进行喷射雕刻的工艺,所述高压空气的压力是6~8大气压,流量在1~1.5立方米/分;4)揭去硬质材料表面上的不干胶膜和塑性保护层,去掉金刚砂粉尘、被雕刻落下的硬质材料粉尘,以及清洗整个被雕刻件的工艺;5)最后进行着色的工艺。
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