[发明专利]一种平面光耦合器的制造方法在审
| 申请号： | 92105522.6 | 申请日： | 1992-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN1068430A | 公开（公告）日： | 1993-01-27 |
| 发明（设计）人： | H·西克斯;A·布鲁克玫尔;W·格罗赫 | 申请（专利权）人： | 赫彻斯特股份公司 |
| 主分类号： | G02B1/04 | 分类号： | G02B1/04;G02B6/26 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 樊卫民 |
| 地址： | 联邦德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 由聚合物薄膜制造任意几何图形的光耦合器的方法，其特征在于借助于事先加热的冲压工具用压力将在一块板上的薄膜冲压成所希望的形状。本发明方法使得在短时间内制造许多耦合器成为可能，而且按此方法制成的耦合器具有很均匀的混频区和良好的光学性能。用本发明方法制成的耦合器的特点是插入衰减和附加损失都特别低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 平面 耦合器 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、用聚合物薄膜制造任意几何图形的光耦合器的方法，其特征在于：借助于事先加热的冲压工具用压力将处在一块板上的薄膜冲压成所希望的形状。
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