[发明专利]化学腐蚀斜面内反射面发射激光器及制作工艺

摘要

本发明为一种面发射半导体激光器，这种激光器的谐振腔其一反射镜面是由化学腐蚀方法形成的反射斜面和平面构成，另一镜面是由解理或刻蚀方法形成的垂直面。面发射光由反射斜面在谐振腔内将水平光束全反射成垂直于芯片表面方向穿过上限制层产生。

主权项

1、一种外延面向上，衬底和铜热沉相焊接，光从外延层表面出射的反射型面发射激光器，由双异质结构，包括盖层(2)，上限制层(3)，有源(4)，下限制层(5)，衬(6)，水平谐振腔和一端为45°角反射斜面，另一端为垂直反射面构成，本发明的特征在于45°角反射斜面由深度超过有源层的燕尾槽(8)一侧壁(9)构成。