[发明专利]导电膜的形成方法无效

专利信息
申请号: 92113361.8 申请日: 1992-11-25
公开(公告)号: CN1073296A 公开(公告)日: 1993-06-16
发明(设计)人: 赵胜衍 申请(专利权)人: 株式会社金星社
主分类号: H01J9/20 分类号: H01J9/20
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人: 范本国
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明为移动喷嘴在阴极射线管屏面上构成导电膜的一种方法。该方法使喷嘴先沿初级路径移动,该路径从纵向和横向均在屏面之外的第一点以之字形延伸到纵向和横向均在屏面之外并在纵向与第一点相对的第二点,该路径包括依次交替的水平和垂直路径段,然后喷嘴沿次级路径移动,该路径从第二点以之字形向第一点延伸并包括依次交替的水平和垂直路径段。次级路径的各水平路径段在初级路径相邻水平路径段之间延伸。
搜索关键词: 导电 形成 方法
【主权项】:
1、通过移动一个在运动过程中喷射涂敷材料的喷嘴从而在阴极射线管屏面上构成导电膜的一种方法,其特征在于:喷嘴先沿初级路径移动,该路径从纵向与横向均在屏面之外的第一点以之字形延伸到纵向与横向均在屏面之外并在纵向与第一点相对的第二点,该初级路径包括依次交替的水平与垂直路径段,然后喷嘴沿次级路径移动,该次级路径从第二点以之字形延伸到第一点并包括依次交替的水平和垂直路径段,次级路径的每个水平路径段在初级路径的相邻水平路径段之间延伸,而这两条路径的垂直路径段在纵向与横向均处在屏面之外。
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