[发明专利]在氯乙烯聚合过程中防止或减少反应器壁上积垢的方法无效
申请号: | 93100468.3 | 申请日: | 1988-07-30 |
公开(公告)号: | CN1039233C | 公开(公告)日: | 1998-07-22 |
发明(设计)人: | 来蒙得C·第渥德 | 申请(专利权)人: | 西洋化学股份有限公司 |
主分类号: | C08F2/00 | 分类号: | C08F2/00;C07D279/20 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 张绮霞,吴俊 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 披露了一种使用通式(Ⅰ)的亚甲基吩噻嗪低聚物的组合物在氯乙烯聚合成聚氯乙烯的过程中防止或减少反应器壁上形成污物或积垢的方法,$&其中,n是1-2的整数。 | ||
搜索关键词: | 氯乙烯 聚合 过程 防止 减少 反应器 壁上 积垢 方法 | ||
【主权项】:
1.一种在氯乙烯聚合成聚氯乙烯的过程中防止或减少反应器壁上形成污物或积垢的方法,其特征在于所述聚合是在具有通式(I)的亚甲基吩噻嗪低聚物的组合物的存在下进行的,其中,n是1-2的整数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西洋化学股份有限公司,未经西洋化学股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/93100468.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种涂有二硼化钛涂层的坩埚及其制造方法
- 下一篇:高光谱分辨光学多道分析仪