[发明专利]通过辐照除去表面沾染物无效
| 申请号： | 93104564.9 | 申请日： | 1993-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN1078415A | 公开（公告）日： | 1993-11-17 |
| 发明（设计）人： | A·C·恩格斯堡;J·A·迪海斯 | 申请（专利权）人： | 大锅有限合伙人公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 程天正,马铁良 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种通过高能辐照除去一个基体的一个平面或不规则形状表面上的表面沾染物的装置。本发明能够除去表面沾染物而不改变下面的基体的分子晶体结构。高能辐照源包括一个脉冲或连续波激光器或高能灯。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 辐照 除去 表面 沾染 | ||
【主权项】：
1.一种用于从一个具有不一致平面的基体的表面除去沾染物而保持该基体处理表面的分子晶体结构不变的装置，该装置包括：a.将一种对该基体处理表面惰性的气体传导到该具有不一致平面的基体处理表面的装置；b.当该气体传导到该基体处理表面时辐照该在不一致平面中取向的基体处理表面的装置，该辐照装置产生一个能量密度的辐射并持续一段时间以足以将表面沾染物从该基体处理表面脱离，但不足以改变该基体处理表面的分子晶体结构。
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