[发明专利]双面对版曝光机

摘要

本发明双面对版曝光机，采用真空吸盘作为上下掩膜版的固定和可调整对准的机构，利用吸附原理将掩膜版吸在吸盘上，每个吸盘可作多个自由度的调整，具有两个曝光光源并包括一个显微镜。本发明双面对版曝光机可由普通的单面光刻机改造而成。本曝光机可用于制作需双面曝光的各种集成压力传感器和其它半导体器件，以及其它需进行双面图形对准加工的片状材料加工。可曝光硅片最大直径为40毫米，对准偏差小于10微米。

主权项

1、一种双面对版曝光机，包括：一个显微镜[2]套装在一个固定于台架[12]上的立轴上，可绕轴水平转动和沿轴向上下移动；一个用于曝光的上光源[11]，是由普通电光源形成的平行光源，该光源与显微镜[2]成一固定角度装在同一个立轴上，上下高度可调整且可绕轴水平转动；本发明的特征在于还包括：一个上掩膜版吸盘[3]通过悬臂安装在一个可垂直运动的蜗杆上，该蜗轮蜗杆系统固定在一个可围绕一个固定在台架[12]上的主轴旋转的支架上，吸盘[3]为环状柱形空腔结构，上下端面镜面抛光，下端面有对称分布的小气群[13]，侧面安装气嘴[14]使空腔与抽气泵连通，抽气泵通过气嘴抽气，使空腔[15]产生负压将上掩膜版[4]通过气孔群[13]吸附固定在吸盘[3]上并随之绕轴旋转和上下移动；一个硅片吸盘[6]，为圆柱空腔结构，上端面镜面抛光并有小气孔群[16]，侧面安装气嘴[17]使空腔与抽气泵连通。硅片[5]靠抽气泵抽气使空腔内产生负压吸附在吸盘[6]的上端面，吸盘[6]安装在台架[12]上并可沿x或y方向水平微动和水平自旋；一个与上掩膜版吸盘[3]结构相同的下掩膜版吸盘[8]，上端面镜面抛光并有对称分布的气孔群，吸盘[8]安装在台架上，可水平x、y方向微动和自旋；一个下光源档板[9]和下光源[10]，档板[9]与上光源[11]同轴安装并联动，下光源[10]亦为普通电光源形成的平行光源，位于台架[12]的下面下掩膜版吸盘[8]的垂直下方。