[发明专利]测定金属和合金的近表层内的结构相不均匀性的方法无效
申请号: | 93109543.3 | 申请日: | 1993-06-22 |
公开(公告)号: | CN1096876A | 公开(公告)日: | 1994-12-28 |
发明(设计)人: | 瓦勒里·S·康德拉特株;阿克帝·桑尼寇;维克托·E·沙特尼库 | 申请(专利权)人: | 地产经营和信托公司 |
主分类号: | G01N27/64 | 分类号: | G01N27/64 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王以平 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及确定和测量金属和合金近表层内结构相的不均匀性参数的方法,包括用电离射线射辐屏蔽后的待检查表面,量测在载流子中电荷的浓度,同时将那些对应屏蔽表面任选的“n”电荷转化成局部的电信号,它们通过信号处点的差值而确定,处理接收到的信号,从而确定不均匀性参数。 | ||
搜索关键词: | 测定 金属 合金 表层 结构 不均匀 方法 | ||
【主权项】:
1、一种用于测定在金属和合金的近表层内结构相不均匀性特别是微应变的特征数据的方法,包括:从外部包围待检查一表面的屏蔽,采用离子射线辐射所屏蔽的表面产生发射电荷,并且测量出表征所屏蔽表面电离过程的电参量,其特征在于:把电流载流子电荷作为测量的电参数,这些电荷是在待测表面的n个任选的区域中由故有的或激励的(由辐射引起的)载流子电荷的发射引起的,将测量出的电荷浓度的n个实际值转换成“n”个局部的电信号(对应于那个屏蔽表面的区域的数目),根据这些信号测定出不均匀性的特征值,这里的“n”≥2。
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