[发明专利]等离子体处理方法和设备

摘要

介绍了一种等离子体化学汽相淀积法和设备。该设备包括一真空室，真空室中设有两对电极。往其中一对电极加高频电压，以便在真空室中产生反应气体的等离子体。待涂敷的基片配置在另一对电极之间。往该另一对电极加频率较低的电压。借助于该低频电压，基片在淀积的过程中就受到等离子体的轰击。轰击的作用在于除去淀积材料较软的部分。

主权项

1、一种用等离子体在真空室中进行处理基片的方法，其特征在于，该方法包括下列步骤：在真空室中将所述基片配置在一对第一电极之间；在适当的压强下往所述真空室中输入反应气体；和往所述第一电极之间输入第一交流高频电压，以便从所述反应气体产生等离子体，并对所述基片进行等离子体处理；其中第二交流电压加在一对第二电极之间，第二电极夹着所述基片，并和所述基片绝缘及在空间上隔离，从而以所述等离子体增加所述基片表面的溅射效应。