[实用新型]质量输运装置无效
| 申请号： | 93200348.6 | 申请日： | 1993-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN2151538Y | 公开（公告）日： | 1993-12-29 |
| 发明（设计）人： | 孙成城;何淑芳;江剑平 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;H01L21/68;B65G49/07 |
| 代理公司： | 清华大学专利事务所 | 代理人： | 廖元秋 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 质量输运装置，属于半导体工艺设备的改进技术。本装置是由上盖、底座及带有许多微孔的隔板组成的一密封箱体，其上盖与隔板形成反应室，隔板与底座底部形成输运室。本实用新型结构简单，操作安全，很好地保证质量输运的质量，提高了器件的成品率。本装置可广泛应用于III-V族化合物发光器件，抛物镜，微透镜阵列的制造以及它们的单片集成的制造的工艺过程中。 | ||
| 搜索关键词： | 质量 输运 装置 | ||
【主权项】：
1、一种质量输运装置，其特征在于由上盖、底座和带有许多微孔的隔板所组成，所说的上盖与底座构成一密封箱体，所说的隔板放置在箱体之中，将该箱体分成上下二层空间，上层为反应室，下层为输运室。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
