[发明专利]用于在超净条件下进行制造的组合式建筑物和传送结构无效
申请号: | 94104367.3 | 申请日: | 1994-04-18 |
公开(公告)号: | CN1106887A | 公开(公告)日: | 1995-08-16 |
发明(设计)人: | 理查德·G·斯科特;克雷格·R·沙克尔顿;雷蒙德·W·埃利斯 | 申请(专利权)人: | 塞米泰克股份有限公司 |
主分类号: | E04H5/02 | 分类号: | E04H5/02 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 孙敬国 |
地址: | 美国德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种用于半导体制造设施的建筑物,具有圆形多层结构。一筒仓位于其中央位置,用于存储晶片,以及把晶片输运至每一楼面环绕所述筒仓呈径向分布的各净化室。禁止人员进入此筒仓和净化室,从而防止对晶片的污染。由于净化室结构具有模块特征,可以方便地对净化室进行重新组合,而不会对正在进行中的制造运行产生重大影响。在不需要的时候,由于结构的模块特性,还可以拆除部分设施。 | ||
搜索关键词: | 用于 条件下 进行 制造 组合式 建筑物 传送 结构 | ||
【主权项】:
1、一种在超净环境下用于制造微电子器件的建筑物,其特征在于,它包括:一带有中央控制区的中央封闭装置,用于分散材料,进行所述微电子器件的制造;一楼面;一位于所述楼面上方的天花板;多面隔离墙,所述多面隔离墙从所述中央封闭装置沿径向向外幅射,并形成多个环绕所述中央封闭装置的脊柱,所述隔离墙与所述楼面和所述天花板连接在一起;一面环绕所述中央封闭装置成同心圆式分布的隔离墙,所述隔离墙与所述楼面、天花板以及多面隔离墙相连,从而环绕所述中央封闭区形成成同心圆式分布的多个完全封闭的净化室,所述净化室用来容纳用于处理所述材料的加工设备;每一所述净化室的环境与其他所述净化室的环境隔离开,从而在每一所述净化室中形成一小环境,从而每一所述净化室的环境完善性的破坏不会影响到其他所述净化室的环境完善性;所述中央封闭装置内和所述净化室内具有超净空气流或超净气体流,从而保持超净小环境;所述中央封闭装置有一开向每一所述净化室的开孔,用来在所述中央封闭装置和所述净化室之间传送所述材料;一与所述中央封闭装置相连的自动材料支架,用来在所述中央封闭装置内,在所述中央封闭装置和通过所述开孔的所述净化室之间输运所述材料;所述材料被输运到各净化室,用来在所述超净环境中进行加工。
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