[发明专利]溅射电极无效
| 申请号： | 94106284.8 | 申请日： | 1994-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN1062916C | 公开（公告）日： | 2001-03-07 |
| 发明（设计）人： | 山西斉;青仓勇;末光敏行;滝澤贵博 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 汪瑜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种具有矩形平板靶（１）并配置磁铁（１８）使磁力线（１６）相对靶（１）表面平行通过的溅射电极，通过配置能使磁力线（１６）方向作１８０度变更的构件（１７），在溅射中重复翻转磁路（１５）的极性，使磁场与电场产生的电子螺旋运动（１９）不只限于一个方向，从而能抵销等离子的不均匀性，提高所形成薄膜在衬底面内、分批操作间的膜厚及膜质的均匀性，提高靶的利用率，并能进行快速且有效的强磁体靶的溅射。$＃! | ||
| 搜索关键词： | 溅射 电极 | ||
【主权项】：
1．一种溅射电极，具有矩形平板靶，并配置磁铁，使磁力线平行通过上述矩形平板靶表面，其特征是具有使上述磁铁极性翻转的构件，用来使平行通过上述矩形平板靶表面的磁力线的方向变更180度。
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