[发明专利]非晶硅/铁电陶瓷复合薄膜及其应用无效
申请号: | 94112118.6 | 申请日: | 1994-04-12 |
公开(公告)号: | CN1110432A | 公开(公告)日: | 1995-10-18 |
发明(设计)人: | 吴道怀;俞大畏;陈慧婷;周章;王永令 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | H01L31/02 | 分类号: | H01L31/02;H01L31/04;H01L31/20;C04B35/00;G02B1/00 |
代理公司: | 中国科学院上海专利事务所 | 代理人: | 潘振苏 |
地址: | 200050*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及的是具有光电转换功能的非晶硅/铁电陶瓷复合薄膜、制备及其应用,属于微电子学和光电子学领域。本发明提供的复合薄膜是由衬底i,掺杂PZT铁电陶瓷薄膜或BaSrTiO3陶瓷薄膜2、非晶硅薄膜3以及电极4、5、6组成.其独特之处在于利用非晶硅良好的光电导性,在光照后电阻下降4个数量级,给铁电薄膜提供光控偏置电场,从而实现光电转换。用本发明提供的复合薄膜可制成多种光电集成器件,如光电开关、光存储器、光电传感器,并可与硅集成电路组合成多功能光电集成电路。 | ||
搜索关键词: | 非晶硅 陶瓷 复合 薄膜 及其 应用 | ||
【主权项】:
1、一种具有光电转换功能的非晶硅/铁电陶瓷复合薄膜,其特征在于(1)结构上复合薄膜是由衬底1、掺杂PZT或BaSrTiO3铁电陶瓷薄膜2、非晶硅薄膜3以及电极4、5、6组成;(2)掺杂PZT铁电薄膜2为Pb(ZrxTi1-x)O3,X可由0.4-0.6范围内变化,厚度为0.2-1μm,或BaSrTiO3;(3)非晶硅薄膜3为a-Si∶H,其厚度控制在其电阻与PZT或BaSrTiO3匹配范围内;(4)电极4、5、是金属电极,如Pt,Au,Al,Ni,Cr,Ni-Cr合金;(5)电极6由透明导电玻璃ITO;(6)衬底1是由Si/SiO2组成。
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