[发明专利]非晶硅/铁电陶瓷复合薄膜及其应用无效

专利信息
申请号: 94112118.6 申请日: 1994-04-12
公开(公告)号: CN1110432A 公开(公告)日: 1995-10-18
发明(设计)人: 吴道怀;俞大畏;陈慧婷;周章;王永令 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: H01L31/02 分类号: H01L31/02;H01L31/04;H01L31/20;C04B35/00;G02B1/00
代理公司: 中国科学院上海专利事务所 代理人: 潘振苏
地址: 200050*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及的是具有光电转换功能的非晶硅/铁电陶瓷复合薄膜、制备及其应用,属于微电子学和光电子学领域。本发明提供的复合薄膜是由衬底i,掺杂PZT铁电陶瓷薄膜或BaSrTiO3陶瓷薄膜2、非晶硅薄膜3以及电极4、5、6组成.其独特之处在于利用非晶硅良好的光电导性,在光照后电阻下降4个数量级,给铁电薄膜提供光控偏置电场,从而实现光电转换。用本发明提供的复合薄膜可制成多种光电集成器件,如光电开关、光存储器、光电传感器,并可与硅集成电路组合成多功能光电集成电路。
搜索关键词: 非晶硅 陶瓷 复合 薄膜 及其 应用
【主权项】:
1、一种具有光电转换功能的非晶硅/铁电陶瓷复合薄膜,其特征在于(1)结构上复合薄膜是由衬底1、掺杂PZT或BaSrTiO3铁电陶瓷薄膜2、非晶硅薄膜3以及电极4、5、6组成;(2)掺杂PZT铁电薄膜2为Pb(ZrxTi1-x)O3,X可由0.4-0.6范围内变化,厚度为0.2-1μm,或BaSrTiO3;(3)非晶硅薄膜3为a-Si∶H,其厚度控制在其电阻与PZT或BaSrTiO3匹配范围内;(4)电极4、5、是金属电极,如Pt,Au,Al,Ni,Cr,Ni-Cr合金;(5)电极6由透明导电玻璃ITO;(6)衬底1是由Si/SiO2组成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海硅酸盐研究所,未经中国科学院上海硅酸盐研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/94112118.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top