[发明专利]具有促进粘着层的金属箔无效
申请号: | 94115038.0 | 申请日: | 1994-08-05 |
公开(公告)号: | CN1106977A | 公开(公告)日: | 1995-08-16 |
发明(设计)人: | C·A·波塔斯;A·M·科瓦克斯 | 申请(专利权)人: | 古尔德电子有限公司 |
主分类号: | H05K3/38 | 分类号: | H05K3/38;B32B15/04 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈季壮 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种金属箔,在所述箔的至少一侧上有一促进粘着层,所述促进粘着层包括至少一种甲硅烷偶合剂,在所述促进粘着层下面的所述箔的基体表面的特征在于无附加的表面粗化。在一种实施方案中,促进粘着层的特征在于无铬。在一种实施方案中,在促进粘着层的基体表面的特征在于无附着到所述基体表面上的锌层或铬层。 | ||
搜索关键词: | 具有 促进 粘着 金属 | ||
【主权项】:
1、一种金属箔,在所述箔的至少一侧上有一促进粘着层,所述促进粘着层包括至少一种硅烷偶合剂,其特征在于无铬,在所述促进粘着层下面的所述箔的基体表面的特征在于无附加的表面粗化;或附着到所述基体表面上的锌层或铬层。
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