[发明专利]稳流半导体集成电路器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 94117896.X 申请日: 1994-09-29
公开(公告)号: CN1105783A 公开(公告)日: 1995-07-26
发明(设计)人: 齐藤丰;小山内润;小岛芳和;石井和敏 申请(专利权)人: 精工电子工业株式会社
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L27/092;H01L27/105;H01L21/66;H01L21/70
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张志醒,萧掬昌
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种低成本CRD(稳流二极管),产生的电流值波动较小,且有较小的芯片尺寸。用于半导体集成电路器件的CRD由耗尽型N沟道MOS晶体管构成,该晶体管中栅、源与基片电气连接。栅绝缘膜小于500埃,栅的沟道长度(L长度)大小8μm。该CRD包括具有与IP对应的第一W宽度的沟道的漏区,对期望的IP是不足够的,还具有第二W宽度的第二漏区,在该漏区中存在多种沟道的W宽度,对这些沟道宽度按需要进行选择使其与第一漏区并联连接。
搜索关键词: 半导体 集成电路 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种稳流半导体集成电路器件,其中稳流通道的电路元件或者用于控制稳流通道的电路元件的电流值的电路元件具有过多部分,所述过多部分被选择地连接。
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