[发明专利]热处理可转变的镀膜玻璃及其转变方法无效

专利信息
申请号: 94117923.0 申请日: 1994-10-05
公开(公告)号: CN1111217A 公开(公告)日: 1995-11-08
发明(设计)人: K·W·哈蒂格;P·J·林格尔 申请(专利权)人: 加迪安工业公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张元忠
地址: 美国密*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 高性能、耐久的溅射镀膜的可热处理玻璃在热处理后呈现约76%或更高的可见光透明度,半球形发射率(En)约0.16或以下,标准发射率(En)约0.12或以下,该镀膜玻璃是通过在玻璃基体上溅射镀膜层状体系形成的,该层状体系包括Si3N4的底镀膜层和上镀膜层、银层,银层的相对侧上的两个镍或镍铬合金层,其中较低镍基层的厚度约为其它镍基层的3倍。增厚的较低镍基层在热处理后使镀膜玻璃制品成为可热处理的和“低E”的。这使其与系列层状组分中热处理法的其它已知玻璃相匹配。
搜索关键词: 热处理 转变 镀膜 玻璃 及其 方法
【主权项】:
1、具有溅射镀膜层状体系的可热处理镀膜玻璃制品从玻璃向外地包含:a)厚度约为350-450A的第一Si3N4层;b)厚度大于约20A的第一镍或镍铬合金层;c)厚度约为50-120A的银层;d)厚度至少约7A的第二镍或镍铬合金层;e)厚度约450-550A的第二Si3N4层;其中所述的镀膜玻璃制品当所述玻璃是透明玻璃且厚度约为2.5-3.5mm时热处理后具有下列特性:透明度(照明C10°观察)约76-78%平板电阻(Rs)小于约12.0欧姆/平方发射率,标准的(En)小于约0.12发射率,半球形的(Eh)小于约0.16。
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